基于光電響應特性的激光粒度儀標定法（二）
2．對各單元響應度的非均勻性校正
得到各單元的線性擬合直線后，作非均勻性校正就很簡單了。只要把各條斜率不同的直線全部校正到某一條直線上即可。具體做法為：設Ki表示第i個單元的擬合直線的斜率，K。為所取的基準直線的斜率，則第i個單元的響應度校正因子定義為
為檢驗校正的效果，做了兩種驗證實驗。
一是用不同強度的均勻光再照射環形陣列光電探測器，仍取第10、20和30三個單元，將其光強響應按（2）式修正后，做出響應曲線，結果見圖5．可見校正達到了預期的目的。
二是對同一粉末樣品的測量結果進行比較。首先，對光電轉換系統的輸出信號不做校正處理，直接進行粒度分析，所得到的結果見圖6。出現了不應有的“雙峰”分布和“翹尾”現象。再將該組信號用（2）式校正后進行粒度分析，結果見圖7,“雙峰”和“翅尾”均消失了．說明校正方法與校正結果的正確性。
聚焦強脈沖激光可以在金屬表面微區產生局部高溫，并使蒸發出的氣體離子化．氫離子及其它元素離子在1.3×10-4Pa真空中在強電場引導下快速離開零電位的金屬靶表面到達具有高壓的鋁過濾膜。這些到達過濾膜的入射離子在非晶鋁膜內與原子碰撞，據LSS理論存在著兩種能量損失方式：
1）入射離子與固體中的原子核碰撞，稱為核阻止，其阻止本領以Sn表示。其值與入射離子能量E無關。
2）入射離子與固體中的電子碰撞。稱為電子阻止，其阻止本領以Se(E）表示．
經文獻（5)(6）計算出鋼靶（零電位）中所含各類元素離化后在過濾鋁膜上電壓為負104伏時，氫離子在鋁膜中射程為200nm而碳離子射程為100nm，而其它原子序數更大的元素在非晶鋁膜中射程均為1～10nm遠小于H+在鋁中的射程。由此可見只有高于104eV能量的氫離子才可穿透200nm的鋁膜在膜背側幾nm處產生二次電子，只有這些二次電子在強電場引導下達零電位鍍鋁的閃爍品體中，而后經光電倍增管放大記錄，從而獲得鋼靶表面測點處氫離子濃度的信息。
我們應用基于純物理過程的等離子計量方法的激光過濾式質譜，曾測出焊縫剖面熔接區及過渡區各點氫離子的計數與非熔區本底氫離子計數，其比值稱為相對氫指數D．現已有用真空加熱驅出鋼中氣體用色相色譜法測出鋼試樣中平均單位質量平均濃度的測試儀．由此，則可計算出微區氫含量。用此方法我們在文獻[7]中報告了對A3碳鋼及ICr18Ni9Ti不銹鋼制成的U型預應力彎頭的氫分布的測定，也曾報告了對這兩類鋼在接區剖面上各點相對氫指數的分布值[8]，為氫脆斷裂力學研究提供了數值依據。
我們將這種基于聚焦強脈沖激光產生等離子體而后再分析其物理、化學過程的分析計量方法命名為等離子計量分析術，激光等離子計量分析術有著廣闊的應用領域，它是應用激光的新的分析方法．在理論與實踐上有待進一步完善與發展。
參考文獻
[1]Lee G.. Dodge，APPLED OPTICS，1984，,23
[2]王少清，王教方，應用激光，1981,11.172
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