晶圓清洗設備的兩種形式
按照清洗方式的不同,清洗設備可分為兩種,分別是單片式和槽式。
一、單片式清洗機是由幾個清洗腔體組成,再通過機械手將每一片晶圓送至各個腔體中進行單獨的噴淋式清洗,清洗效果較好,避免了交叉污染和前批次污染后批次,但缺點是清洗效率較低,成本偏高。
二、槽式清洗機是將晶圓放在花籃中,再利用機械手依次將其通過不同的化學試劑槽進行清洗,槽內(nèi)裝有酸堿等化學液,一次可以同時清洗一個花籃(25 片)或兩個花籃( 50 片晶圓),此類清洗機清洗效率較高、成本較低,缺點是清洗的晶圓之間會存在交叉污染和前批次污染后批次。槽式清洗機主要由耐腐蝕機架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制單元、 排風單元以及氣體和液體管路單元等幾大部分構(gòu)成。
推薦