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GB/T 42676-2023
半導體單晶晶體質量的測試 X射線衍射法

X-ray Diffraction Method for Testing the Quality of Semiconductor Single Crystal

GBT42676-2023, GB42676-2023


標準號
GB/T 42676-2023
別名
GBT42676-2023, GB42676-2023
發布
2023年
總頁數
8頁
發布單位
國家質檢總局
當前最新
GB/T 42676-2023
 
 
適用范圍
利用X射線衍射儀測試半導體材料雙晶搖擺曲線半高寬,評價半導體單晶晶體質量的方法 適用于碳化硅、金剛石、氧化鎵等單晶材料晶體質量的測試 硅、砷化鎵、磷化銦等半導體材料晶體質量的測試也可參照
術語描述
χ軸
chi axis
樣品臺表面與衍射平面相交而成的傾斜樣品的軸。
χ角
chi angle
樣品某晶面與樣品表面的夾角。
φ角
phi angle
樣品臺繞樣品表面法線旋轉的角度。
ω角
omega angle
入射X射線與樣品臺表面的夾角。

GB/T 42676-2023 中提到的儀器設備

雙晶X射線衍射儀 用于半導體單晶晶體質量測試,具有Cu靶或其他靶材,配備分析晶體和狹縫系統。

其他標準


專題


GB/T 42676-2023相似標準





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