在半導(dǎo)體制造過程中,N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)因其低蒸氣壓和相對(duì)較高的沸點(diǎn)(80°C)(可提升光刻膠的剝離效率)而被用作典型的光刻膠剝離液。NMP易于溶解有機(jī)雜質(zhì)且不會(huì)損壞光刻膠本身,因此是該應(yīng)用的最佳溶劑。然而,由于半導(dǎo)體制造過程需要超高純度的試劑,并且污染物的存在可能會(huì)對(duì)存儲(chǔ)設(shè)備的可靠性...
介紹SCION(賽里安)提供了通過氣相色譜法和有效碳數(shù)法測(cè)定單環(huán)芳烴中微量雜質(zhì)的解決方案。生產(chǎn)后的產(chǎn)品可能含有雜質(zhì)。ASTM D7504描述了苯、甲苯、乙苯、對(duì)二甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯和苯乙烯中總非芳香烴、單環(huán)芳香烴的測(cè)定。這種方法同時(shí)可以計(jì)算出這些成分的純度。本應(yīng)用適用于SCION(賽里安...
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