全反射X射線熒光光譜儀 Mo作為X射線源和Ga作為內部標準校準 | 用于表面化學分析,特別適用于硅片等樣品的元素含量測定。 |
01 導言 X 射線反射鏡是一種能反射和聚焦短波長 X 射線(束)的反射光學元件,廣泛應用于各種分析儀器中。為了有效表征 X 射線的光學和物理性質,各種反射鏡形態須達到平均粗糙度在亞納米級的高表面精度。便攜式 X 射線元素分析儀基于全反射 X 射線熒光 (TXRF) 分析技術構建,應用于需要...
主要使用X射線束激發熒光輻射,第一次是在1928年由格洛克爾和施雷伯提出的。到了現在,該方法作為非破壞性分析技術,并作為過程控制的工具,廣泛應用于采掘和加工工業。原則上,最輕的元素,可分析出鈹(z=4),但由于儀器的局限性和輕元素的低X射線產量,往往難以量化,所以針對能量分散式的X射線熒光光譜儀...
X射線熒光光譜(XRF)技術是一項可用于確定各類材料成份構成的分析技術,已經成熟運用多年。其應用方向主要包括金屬合金、礦物、石化產品等等。而全反射X射線熒光作為X射線熒光中的后起之秀,因為制樣簡單且具有可與原子吸收光譜 (AAS), 電感耦合等離子體質譜 (ICP-MS) 比擬的低至PPb級別...
X射線熒光光譜化學分析熔鑄玻璃片法,是用熔鑄玻璃片法制樣,以消除礦物和粒度效應,將樣品鑄成適合X射線熒光光譜儀測量形狀的玻璃片,測量玻璃片中待測元素的X射線熒光強度,根據校準曲線來得到待測元素含量...
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