確保 X射線衍射儀 符合JB/T 9400—2010標(biāo)準(zhǔn),并檢查以下組件:
要求項(xiàng) | 技術(shù)指標(biāo) |
---|---|
測(cè)試面尺寸 | ≥5mm×5mm |
表面平整度 | 無可見污染/劃痕 |
安裝定位 | 測(cè)試面與旋轉(zhuǎn)臺(tái)平行且中心對(duì)齊 |
按以下公式驗(yàn)證結(jié)果:
θ0 = (θ1 + θ2)/2
示例:當(dāng)θ1=11.52°、θ2=26.22°時(shí):
項(xiàng)目 | 必填內(nèi)容 |
---|---|
設(shè)備信息 | 衍射儀型號(hào)、X射線源類型 |
樣品信息 | 材料名稱、參考晶面(hkl) |
測(cè)試參數(shù) | 掃描范圍、旋轉(zhuǎn)速度、φ值 |
請(qǐng)注意,本內(nèi)容不等同于標(biāo)準(zhǔn)原文,內(nèi)容僅供參考,本站不保證內(nèi)容的正確性。準(zhǔn)確、完整的信息請(qǐng)參閱正式版文本。
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用X射線衍射儀,在測(cè)試中對(duì)樣品進(jìn)行旋轉(zhuǎn),從而確定晶體材料取向的測(cè)試方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于晶體材料取向的測(cè)試。
術(shù)語 | |
---|---|
晶體 | crystal |
晶面 | crystallographic plane |
晶面指數(shù) | crystal index |
結(jié)晶學(xué)表示法 | crystallographic notation |
晶向偏離角 | off-orientation angle |
X射線衍射儀 | 應(yīng)配備可使測(cè)試樣品繞法線自轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),旋轉(zhuǎn)方向、速度可控,轉(zhuǎn)速范圍為60 r/min~120 r/min。 |
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) | 用于使樣品繞測(cè)試表面法線自轉(zhuǎn)的設(shè)備,轉(zhuǎn)速可調(diào)。 |
Copyright ?2007-2025 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP備07018254號(hào) 京公網(wǎng)安備1101085018 電信與信息服務(wù)業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)許可證:京ICP證110310號(hào)
頁面更新時(shí)間: 2025-04-07 14:50